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氮化處理與介面工程於高介電材料金氧半元件之探討:Electrical Characteristics of Metal-Oxide-Semiconductor Devices by Nitridation treatment and Interfacial Engineering on High-K Dielectrics
王晉億 黃芝傑 陳敏璋
奈米通訊
24:3 2017.09[民106.09]
頁2-7
TCI引用統計