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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14 1996.04[民85.04]
- 頁 次:
頁159-167
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題 名:
ADI利用陰極電弧電漿沈積TiN/TiAIN硬膜之研究:Study of ADI Surface Coated TiN/TiAIN by Cathodic Arc Plasma Deposition
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:2=125 民94.06
- 頁 次:
頁1-6
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
124 2004.06[民93.06]
- 頁 次:
頁79-90
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26 2003.02[民92.02]
- 頁 次:
頁30-33
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:1=124 2005.03[民94.03]
- 頁 次:
頁1-7
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:2=141 2009.06[民98.06]
- 頁 次:
頁20-27
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
82:3 2009.06[民98.06]
- 頁 次:
頁85-98
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題 名:
鎳合金元素對ADI製程窗之影響:Effect of Nickel Element on Processing Window of ADI
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:1=128 民95.03
- 頁 次:
頁53-61
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題 名:
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題 名:
添加鈷元素對DI/ADI顯微組織及硬度之影響:Effects of Cobalt Addition on Microstructure and Hardness of DI/ADI
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
32:2=129 民95.06
- 頁 次:
頁19-27
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題 名: