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利用非真空噴霧式化學氣相沉積法製作具有δ-摻雜通道之β-氧化鎵金屬-氧化物-半導體場效應電晶體:Fabrication of β-Ga₂O₃ Metal-oxide-semiconductor Field-effect Transistors with δ-doped Channel via Non-vacuum Mist Chemical Vapor Deposition
洪皓君 劉漢胤 許渭州 Hung, Hao-chun; Liu, Han-yin; Hsu, Wei-chou;
科儀新知
244 2025.09[民114.09]
頁23-33
TCI引用統計