刊名
類目
出版年
資料類型
檢索結果筆數(1)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
在搜尋的結果範圍內查詢:
全部
排序
每頁顯示
1
A Study of the Theoretical Model for Thicknesses of Chemical Reaction Layers of Silicon Wafers Soaked in Slurries of Different Temperatures and Different Volume Concentrations and the Regression Equation of Thickness of Chemical Reaction Layer:浸泡不同溫度及不同體積濃度研磨液之矽晶圓化學反應層厚度理論模式及化學反應層迴歸公式研究
林榮慶 張子聞 陳彥榆 郭北辰 Lin, Zone-ching; Jhang, Zih-wun; Chen, Yan-yu; Kuo, Bei-chen;
中國機械工程學刊
45:4 2024.08[民113.08]
頁319-327
TCI引用統計