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利用陰極電弧沉積TiCrAlN陶瓷硬膜強化ADI表面特性探討:Exploration on Surface Characterization of ADI Reinforced by TiCrAlN Ceramic Hard Film Using Cathodic Arc Deposition
許正勳 彭家威 方鈞毅 何政澔 林俊穎
鑄造工程學刊
49:1=194 2023.06[民112.06]
頁1-10
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