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題 名:
化合物半導體製程用CVD SiC鍍膜技術:CVD SiC Coating Technology for Compound Semiconductor Process
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
445 2024.01[民113.01]
- 頁 次:
頁138-150
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題 名:
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題 名:
高功率元件用SiC載盤CVD製程氣體處理技術:Exhaust Gas Abatement Technology for SiC Disk CVD Process
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
448 2024.04[民113.04]
- 頁 次:
頁128-142
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題 名: