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多片式電漿化學氣相沉積及原子層沉積雙製程鍍膜設備:Multi-chip Plasma Chemical Vapor Deposition and Atomic Layer Deposition Dual-process Coating Equipment
葉昌鑫 黃俊凱 林家豪 黃秉敦 洪政源 田偉辰 Ye, Chang-sin; Huang, Chun-kai; Lin, Jia-hao; Huang, Ping-tun; Hung, Cheng-yuan; Tien, Wei-chen;
真空科技
36:4 2023.12[民112.12]
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