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電漿氮化法製備超薄氮化矽緩衝層於InN奈米柱成長之研究:Study of InN Nanocolumns on Ultra-thin Si₃N₄ Buffer Layer by RF Plasma Nitridation
陳維鈞 余東原 Chen, Wei-chun; Yu, Tung-yuan;
科儀新知
222 2020.03[民109.03]
頁63-78
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