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題 名:
聚焦氦離子束微影與鄰近效應修正技術:Proximity Effect Correction for Helium Ion Beam Lithography
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
435 2019.06[民108.06]
- 頁 次:
頁15-23
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題 名: