刊名
類目
出版年
資料類型
檢索結果筆數(1)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
在搜尋的結果範圍內查詢:
全部
排序
每頁顯示
1
使用VHF PECVD探討非晶矽薄膜於N型矽基板之鈍化效果:Effects of Passivation Layer Deposited on N-type Crystalline Silicon by Using VHF 40.68 MHz Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
林家豪 吳宏偉 田偉辰 洪政源 劉世坤 Lin, Jia-hao; Wu, Hung-wei; Tien, Wei-chen; Hung, Cheng-yuan; Liu, Shih-kun;
真空科技
31:2 2018.06[民107.06]
頁(22)1-(22)6
TCI引用統計