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研析虛線對解釋申請專利之設計的影響--以美國iPhone設計專利單方再審查案為中心:Broken Lines in Claim Construction of a Design Patent: In View of Ex Parte Reexamination of Apple's iPhone
葉哲維 徐銘夆 Yeh, Che-wei; Hsu, Ming-feng;
智慧財產權月刊
221 2017.05[民106.05]
頁41-70
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