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- 題 名:
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- 卷 期:
91 2014.12[民103.12]
- 頁 次:
頁11-12
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題 名:
極紫外光微影技術實驗設施:Extreme UV Lithography Beamline for Nano Devices
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
88 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁8-9
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27:1 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁33-37
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
90 2014.10[民103.10]
- 頁 次:
頁9
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題 名:
高耐久性聚碳酸酯板材使用之紫外光吸收劑:UV Absorber for High Durable Polycarbonate Sheet
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
333 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁137-140
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:4 2014.12[民103.12]
- 頁 次:
頁21-24
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:9=230 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁46-55
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:9=230 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁56-78