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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
378 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁67-78
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題 名:
極紫外光微影技術實驗設施:Extreme UV Lithography Beamline for Nano Devices
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
88 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁8-9
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題 名:
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題 名:
雷射干涉微影於光學尺製作技術:Optical Linear Encoder Producing with Laser Interference Lithography
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
371 2014.02[民103.02]
- 頁 次:
頁136-143
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
36:2 2014.04[民103.04]
- 頁 次:
頁89-94
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
201 2014.12[民103.12]
- 頁 次:
頁22-29
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
198 2014.03[民103.03]
- 頁 次:
頁85-93
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:9=230 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁46-55
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:9=230 2014.09[民103.09]
- 頁 次:
頁56-78