刊名
類目
出版年
資料類型
檢索結果筆數(1)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
在搜尋的結果範圍內查詢:
全部
排序
每頁顯示
1
以電漿增強化學氣相沉積法製備氮氧化矽氣體阻障層之研究:A Study on the Preparation of Silicon Oxynitride Gas Barrier by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
黃吉廷 呂紹楷 陳泰宏 賴豊文 林益銓 劉代山 Huang, Ji-ting; Lu, Shao Kai; Chen, Tai-hong; Lai, Li-wen; Lin, Yi-cyuan; Liu, Day-shan;
真空科技
27:1 2014.03[民103.03]
頁55-61
TCI引用統計