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題 名:
利用電漿增強化學氣相沉積法製作具高阻氣效能之有機矽基/氮氧化矽多對氣體阻障層結構:The Preparation of a Quality Organosilicon/ Silicon Oxynitride Multilayered Barrier Structure by Using Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
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作 者:
陳順祺
呂紹楷
李俊永
林泓均
陳煜杰
吳建輝
陳泰宏
賴豊文
黃吉廷
劉代山
Chen, Shun-chi;
Lu, Shao-kai;
Li, Jyun-yong;
Lin, Hong-jyun;
Chen, Yu-chieh;
Wu, Jian-huei;
Chen, Tai-hong;
Lai, Li-wen;
Huang, Ji-ting;
Liu, Day-shan;
- 書刊名:
真空科技
- 卷 期:
27:4 2014.12[民103.12]
- 頁 次:
頁55-60
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被引用次數:期刊(0) 博士論文(0) 專書(0) 專書論文(0)
排除自我引用:0
共同引用:0
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