刊名
類目
出版年
資料類型
檢索結果筆數(1)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
在搜尋的結果範圍內查詢:
全部
排序
每頁顯示
1
應用氧化鉿/氮化矽堆疊式電荷儲存層改進無接面式快閃記憶體元件的抹除速度:
諶俊元 張廖貴術 葉宗浩 王天戈
電子月刊
20:3=224 2014.03[民103.03]
頁112-119
TCI引用統計