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奈米鑽石石墨研磨墊應用於化學機械研磨移除晶圓氧化層特性之研究:Investigation of a Novel Nanodiamond-Impregnated Polishing Pad for Oxide Chemical Mechanical Polishing
蔡明義 陳建勳 Tsai, Ming-yi; Chen, Chien-hsun;
技術學刊
28:4 2013.12[民102.12]
頁235-241
TCI引用統計