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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
10:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁72-82
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:1=210 2013.01[民102.01]
- 頁 次:
頁102-111
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題 名:
原子層沉積技術製作氧化鋁膜於薄膜電晶體之應用:Atomic Layer Deposited Al₂O₃ for Thin Film Transistor Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁34-44
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題 名:
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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
39:6=455 2013.06[民102.06]
- 頁 次:
頁64-83
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- 題 名:
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- 書刊名:
- 卷 期:
38:3 2013.08[民102.08]
- 頁 次:
頁171-176