查詢結果
檢索結果筆數(1)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
-
-
題 名:
原子層沉積技術製作氧化鋁膜於薄膜電晶體之應用:Atomic Layer Deposited Al₂O₃ for Thin Film Transistor Applications
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
26:1 2013.03[民102.03]
- 頁 次:
頁34-44
-
題 名: