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電漿製程中電漿密度之量測--傳輸線式微波干涉儀:Plasma Density Measurement in Plasma Process--A Transmission-Line Microwave Interferometer
謝政宏 張家豪 鄭景元 柳克強 Hsieh, C. H.; Chang, C. H.; Jeng, J. Y.; Leou, K. C.;
真空科技
25:1 2012.03[民101.03]
頁24-30
TCI引用統計