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氧化鋅透明導電膜之原子層沉積製程與設備技術:ALD Process and Equipment for the Growth of Transparent Conductive Zinc Oxide Films
嚴國藝 邱建華 李俊緯 林沛鋅 王慶鈞 黃振榮 梁沐旺 吳慶輝 羅展興 龔志榮
機械工業
350 2012.05[民101.05]
頁84-90
TCI引用統計