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檢索結果筆數(5)。 各著作權人授權國家圖書館,敬請洽詢 nclper@ncl.edu.tw
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:8=193 2011.08[民100.08]
- 頁 次:
頁98-107
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
139 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁38-42
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:9=194 2011.09[民100.09]
- 頁 次:
頁206-214
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題 名:
使用XR與XPS分析二氧化鉿薄膜退火之膜層結構變化:Layer Structure Analysis of Thin HfO₂ Film by XR and XPS Technique
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
27 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁4-12
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
84:6 2011.12[民100.12]
- 頁 次:
頁40-47