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題 名:
MOCVD反應室內基板旋轉對流場之影響研究:Effect of Substrate Rotation on Flow Field Distribution in MOCVD Reactor
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
338 2011.05[民100.05]
- 頁 次:
頁154-160
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
19:11=224 2011.11[民100.11]
- 頁 次:
頁56-67