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- 題 名:
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- 卷 期:
22:1 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁49-52
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- 題 名:
- 作 者:
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- 卷 期:
22:3 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁12-16
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:3 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁22-26
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
22:3 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁27-31
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題 名:
高散熱性氧化鋁薄膜之研究:Study the Heat Dissipation Effect of the Al₂O₃ Thin Film
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
56 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁77-85
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:4 2009.12[民98.12]
- 頁 次:
頁11-15
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31 2009.07[民98.07]
- 頁 次:
頁131-136
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
271 2009.07[民98.07]
- 頁 次:
頁102-111
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題 名:
以射頻磁控濺鍍製備p型類鑽碳薄膜之研究:Characterization of Boron-doped Diamond-like Carbon Prepared by R.F. Sputtering
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
28:3 2009.07[民98.07]
- 頁 次:
頁60-69
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
35:5=406 2009.05[民98.05]
- 頁 次:
頁62-72
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
315 2009.06[民98.06]
- 頁 次:
頁80-96
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
24:3 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁175-182
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
18 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁66-73
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
17:9=198 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁136-147
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題 名:
熱均壓封罐製程對Cr-Si濺鍍靶材性質之探討:Effect of Properties on Cr-Si Sputtering Target through HIP Canning Treatment
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
53:3=207 2009.09[民98.09]
- 頁 次:
頁39-45
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23 2009.02[民98.02]
- 頁 次:
頁79-89
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
23 2009.02[民98.02]
- 頁 次:
頁121-130
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:2 2009.01[民98.01]
- 頁 次:
頁37-41
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題 名:
奈米電子元件之銅金屬化薄膜製程技術:Copper Metallization Thin-Film Fabrication Techniques for Nano-Electronic Devices
- 作 者:
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- 卷 期:
16:1 2009.03[民98.03]
- 頁 次:
頁31-38
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題 名: