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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
62 2008.08[民97.08]
- 頁 次:
頁77-79
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題 名:
太陽能產業與電漿應用技術:The Solar Power Sector and the Plasma Application Technology
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
266 2008.09[民97.09]
- 頁 次:
頁69-83
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題 名:
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題 名:
超高頻電漿輔助化學氣相沉積設備技術:Technology of VHF Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Equipment
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
266 2008.09[民97.09]
- 頁 次:
頁84-94
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
21:1/2 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁16-21
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題 名:
電漿處理對Ribbond複合材物性之影響:The Effect of Plasma Treatment on the Properties of Ribbond Composities
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
15:4 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁333-344
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題 名:
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題 名:
Preparation of Titanium Oxide Coatings Synthesized by Cathodic Arc Deposition:以陰極電弧電漿沉積技術製備二氧化鈦薄膜材料
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
4:1 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁1-12
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
20:1(A) 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁11-16
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
6:6 2008.11[民97.11]
- 頁 次:
頁49-60
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁25-33
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁48-55
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題 名:
超硬奈米複合鍍膜發展趨勢與現況:Current Status and Advances in Superhard Nanocomposite Coatings
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁56-62
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題 名:
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題 名:
磁控濺鍍電漿製程之表面處理設備:Surface Treatment Equipment of Magnetron Sputter Plasma System
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁82-90
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題 名:
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題 名:
電壓電漿設備技術:A Review of Atmospheric Pressure Plasma System Technology
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
304 2008.07[民97.07]
- 頁 次:
頁91-102
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
7:1 2008.08[民97.08]
- 頁 次:
頁211-219
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題 名:
大氣筆式水氣電漿對軟式印刷電路板之開發與應用:FPCB De-Smear by Using Atmosphere Pen-like H₂O Plasma
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁1-6
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
25 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁27-39
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:9=158 2008.09[民97.09]
- 頁 次:
頁134-143
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題 名:
金屬厚度對表面電漿共振之影響:The Influence of Surface Plasma Resonance Caused by Gold Film Thickness
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
5:2(下) 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁27-36
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題 名:
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
12 2008.06[民97.06]
- 頁 次:
頁99-111
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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
16 2008.12[民97.12]
- 頁 次:
頁299-304