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氧化劑對銅/鉭電偶於化學-機械拋光下之加凡尼行為的影響:Effect of Oxidizer on the Galvanic Behavior of Cu/Ta Coupling during Chemical-Mechanical Polishing
潘思蓉 陳瑞琴 蔡文達 Pan, Szu-jung; Chen, Jui-chin; Tsai, Wen-ta;
防蝕工程
21:4 2007.12[民96.12]
頁307-313
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