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以脈衝式直流磁控濺鍍法製鍍二氧化矽之光學特性及沉積速率研究:Research of Optical Properties and Deposition Rate of SiO₂ Deposited by Dual Pulsed DC Magnetron Sputtering
林金仕 江忠憲 唐謙仁 Lin, C. S.; Chiang, C. H.; Tang, C. J.;
真空科技
20:1 2007.10[民96.10]
頁22-27
TCI引用統計