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Faraday Cup Characterisation of Low Pressure RF Plasmas Used in Optical Coating Process:應用在光學鍍膜製之高真空射頻電漿法拉第杯特性
Morrison, N.A.; Weiler, M.; Dahl, R.; Razouki, M.; Schlaefer, S.; Hopkins, M.; Lee, R.;
光學工程
91 民94.09
頁25-36
TCI引用統計