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用於次25奈米極紫外光曝光機之新穎反射型衰減式相位移光罩:A Novel Structure of Reflective Type Attenuated-Phase-Shifting-Masks for Sub-25 nm Extreme Ultraviolet Exposure Tools
陳學禮 鄭旭君 洪鶯玲 朱鐵吉 Chen, Hsuen-li; Cheng, Hsu-chun; Hong, Ying-ling; Chu, Tieh-chi;
科儀新知
27:2=148 民94.10
頁24-29
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