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Temperature Uniformity of 12-inch Silicon Wafer during Rapid Thermal Processing:十二吋矽晶圓在快速熱製程中溫度均勻性之研究
曲新生 Chu, Hsin-sen;
中國機械工程學刊
24:4 2003.08[民92.08]
頁391-406
TCI引用統計