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感應耦合電漿離子蝕刻製程應用於光通訊元件之開發研究:Development of Optical Communication Components by ICP-RIE Silicon Deep Dry Etching Process
胡一君 林郁欣 殷宏林 林暉雄 周曉宇 Hu, Yi-chiuen; Lin, Yu-hsin; Yin, Hung-ling; Lin, Hui-ysiung; Chou, Hsiao-yu;
科儀新知
24:4=132 2003.02[民92.02]
頁54-62
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