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Using Nitrogen(N[feaf]狇)Implantation and a-Si Films to Improve the Thermal Stability of Ccobalt Silicide:利用氮離子佈植技術與非晶矽膜改善矽化鈷之熱穩定性
鄧一中 Deng, I-chung;
光武學報
26 2003.03[民92.03]
頁345-360
TCI引用統計