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Study on Wafer Rework Strategies and Dispatching Rules at the Photolithography Stage:晶圓製造廠微影黃光區整合再加工策略與派工法則之研究
沙永傑 謝玲芬 林世星 Sha, Yung-jye; Hsieh, Ling-feng; Lin, Shih-hsing;
工業工程學刊
20:5 2003.09[民92.09]
頁457-464
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