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題 名:
濺鍍銅膜之氧化行為研究:On the Oxidation Behavior of Sputtered Copper Film on Si Wafer
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- 書刊名:
- 卷 期:
34:1 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁1-7
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題 名:
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題 名:
入口流速對MOCVD反應室內氣體分佈的影響:The Influence of flow Rate on Gas Distribution in MOCVD Chamber
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:4 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁255-260
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14:2 2002.06[民91.06]
- 頁 次:
頁9-15