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銅膜的化學氣相沉積成長及其在極大型積體電路上之應用:Growth of Cu Films by Chemical Vapor Deposited and It's Application in ULSI
李文鴻 鄭鐵樹
黎明學報
14:2 2002.06[民91.06]
頁9-15
TCI引用統計