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題 名:
濺鍍銅膜之氧化行為研究:On the Oxidation Behavior of Sputtered Copper Film on Si Wafer
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
34:1 2002.03[民91.03]
- 頁 次:
頁1-7
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題 名:
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
90:2=536 2002.02[民91.02]
- 頁 次:
頁98-99
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
91:3=543 2002.09[民91.09]
- 頁 次:
頁92-93
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
90:1=535 2002.01[民91.01]
- 頁 次:
頁84-85
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
91:1=541 2002.07[民91.07]
- 頁 次:
頁97-98
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
91:6=546 2002.12[民91.12]
- 頁 次:
頁96-97
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
91:4=544 2002.10[民91.10]
- 頁 次:
頁96-97
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- 題 名:
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
91:2=542 2002.08[民91.08]
- 頁 次:
頁92-93