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Development of a New Line Scanning Mask-Based Photo-Curing RP System for Concept Modeling:一種新型線掃描光罩式快速原型系統研發與概念模型應用
鄭正元 葉怡昌 蔡明忠 Jeng, Jeng-ywan; Tsai, Ming-jong; Yeh, Y. C.;
中國機械工程學刊
22:5 2001.10[民90.10]
頁371-376
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