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以傅氏紅外線光譜儀對矽基元件Si-SiO[feaf]介面矽氧層範圍之辨識:The Comparision of the Width of Si-SiO[feaf]Interface Layer by FTIR
蔡震寰 余安錠 Tsai, J. H.; Yu, A. T.;
筧橋學報
7 2000.09[民89.09]
頁163-180
TCI引用統計