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高密度感應耦合電漿設備之電漿特性與其蝕刻機制研究:Characterization of Plasma in an Inductively-Coupled High-Dense Plasma Source and Its Etching Mechanism
蘇天佑 徐享楨 林維倫 廖芳慶 劉彥泓 武東星 Su, W.; Hsu, D.; Lin, W. L.; Liao, F. C.; Liu, Y. H.; Wuu, D. S.;
真空科技
13:4 2000.11[民89.11]
頁25-31
TCI引用統計