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題 名:
以化學氣相沈積成長金屬碳化物及金屬氮化物薄膜:Chemical Vapor Deposition of Metal Carbide and Nitride Thin Films
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
56:2 1998.06[民87.06]
- 頁 次:
頁121-124
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題 名:
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題 名:
以無機化學氣相沈積法製作薄膜材料:Thin Film Materials Prepared by Inorganic Chemical Vapor Deposition
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
56:2 1998.06[民87.06]
- 頁 次:
頁129-135
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題 名: