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Estimation of W-polycide Gated Process with Superior Device Behavior in Deep Sub-μm CMOS Technology:有較佳電氣特性之深次微米鎢複晶矽閘極場效電晶體製程
陳啟文 吳明瑞 Chen, Chii-wen; Wu, Ming-ray;
明新學報
20 民87.05
頁205-211
TCI引用統計