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Optimization of Spacer Width and Source-Drain Implant on pMOS Characteristics for Quarter-Micrometer Devices:閘極的空間寬度及淡濃度佈植的金氧半電晶體之最佳化
梁瑛心 崔秉鉞 王是琦 Liang, Ying-hsin; Tsai, Bing-yue; Wong, Shyh-chyi;
南開學報
2 1997.06[民86.06]
頁151+153-162
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