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1
游離二氧化矽粉塵濃度測定參考分析方法比對:
洪珮珮 湯大同
勞工安全衛生研究季刊
3:4 1995.12[民84.12]
頁39-59
TCI引用統計
2
Plasma Deposited Amorphous Tungsten Nitride Diffusion Barrier for Metal-Organic Chemical Vapor Deposited Cu Metallization:金屬有機化學氣相沈積銅連線技術中之電漿沈積非晶型氮化鳴擴散護障層
Kim,Yong Tae; Lee,Chang Woo;
Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
2:1 1995.02[民84.02]
頁7-11