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題 名:
A Genuine SiO[feaf]Dielectric Obtained from a New Sputtering Process:以新濺鍍程序製成之二氧化矽薄膜
- 作 者:
- 書刊名:
- 卷 期:
14(科技篇) 1979.05[民68.05]
- 頁 次:
頁215-218
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題 名: