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高密度電漿蝕刻應用於850nm面射型雷射之製程與特性研究:Characterization and Fabrication of 850-nm Vertical-Cavity Surface-Emitting Lasers by High Density Plasma Etching
蔣承忠 李逸駿 胡飛名 貢中元 洪瑞華 武東星 Chiang, C. C.; Li, Y. C.; Wu, F. M.; Horng, R. H.; Wuu, D. S.;
真空科技
15:4 2002.11[民91.11]
頁17-24
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