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Retardation of Epitaxial Realignment by Implantation of Argon in P狇/N Poly-Si or α-Si Emitter Diode:氬離子植入於p狇/n複晶矽或異型矽射極二極體中以抑制磊晶再排列
李隆盛 李崇仁 Lee, Lurng-shehng; Lee, Chung-len;
Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
8:1 2001.02[民90.02]
頁1-7
TCI引用統計