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The Correlation between the Characteristicsofa-Si:Hthin-Film Transistorand Physicalproperties of a-Sin戓:Hgatelayer withn[feaf]O-Plasmatreatment:探討非晶矽薄膜電晶體的特性與經N[feaf]O電漿處理後的非晶氮化矽薄膜性質之間的關係
陳盈安 林全益 蔡文欽 賴利弘 簡廷憲 洪志旺 Chen, Yen-ann; Lin, Chain-ye; Tsay, Wen-chin; Laih, Li-hong; Jen, Tean-sen; Hong, Jyh-wong;
Journal of the Chinese Institute of Electrical Engineering
4:2 1997.05[民86.05]
頁89-96
TCI引用統計
2
Effect of Plasma Treatment of a-SiO[febb]N /a-SiN[febb]Gate Insulators on a-Si:H Thin-Film Transistor:經電漿處理的非晶氮氧化矽/氮化矽閘極絕緣層對非晶矽薄膜電晶體特性的影響
簡廷憲 呂學德 蔡文欽 陳盈安 洪志旺 張俊彥 Jen,Tean-sen; Leu,Shyue-ter; Tsay,Wen-chin; Chen,Yen-ann; Hong,Jyh-wong; Chang,Chun-yen;
2:1 1995.02[民84.02]
頁19-24