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- 題 名:
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
31:3 2000.05[民89.05]
- 頁 次:
頁253-260
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題 名:
A Chemical Kinetics Model for Oxide Chemical Mechanical Polishing:氣化層化學機械研磨的動力學模型
- 作者:
- 書刊名:
- 卷 期:
37:4 民95.07
- 頁 次:
頁401-405
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題 名: