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Direct Simulation Monte Carlo of Monosilane Low Pressure Chemical Vapor Deposition:蒙地卡羅分子模擬法模擬矽甲烷低壓化學氣相沉積
徐啟中 李良倫 蔡大翔 Hsu, Chi-chung; Lee, Lang-luen; Tsai, Dah-shyang;
Journal of the Chinese Institute of Chemical Engineers
29:6 1998.11[民87.11]
頁427-435
TCI引用統計