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一種可實際應用半導體化學機械研磨之奈米級二氧化鈰粉末新製程技術:
施文塵 劉如熹 黎源欣 邱建華 蔡明蒔
陶業
19:1 2000.01[民89.01]
頁22-27
TCI引用統計